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世界半導體工業(yè)界預測，這種進步至少仍將持續(xù)10到15年。面對現(xiàn)有的晶體管模式及技術已經(jīng)臨近極限，借助芯片設計人員巨大的創(chuàng)造才能，使一個個看似不可逾越的難關化險為夷，硅晶體管繼續(xù)著小型化的步伐。近期美國科學家的科技成果顯示，將10納米長的圖案壓印在硅片上的時間為四百萬分之一秒，把硅片上晶體管的密度提高了100倍，同時也大大提高了線生產(chǎn)的速度。這一成果將使電子產(chǎn)品繼續(xù)微小化，使摩爾定律繼續(xù)適用。